高純氬氣
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高純六氟化硫的未來可期

2020-02-12 14:51:11

高純SF6氣體是我國科研、生產等許多部門急需的特種氣休,在半導體工業巾用于等離子蝕刻工藝,在光導纖維制造中用作隔離層摻雜劑。高純SF6氣體還是重要的激光材料,在其它領域也有重要用途。


高純六氟化硫(純度在99.99%以上),國內需求非常旺盛,而且附加值較高。


高純六氟化硫主要用于半導體工業中作清洗氣體。


六氟化硫的成本只有NF3的幾分之一,近年來,各公司以廉價的SF6取代以往CVD工藝中作為清洗氣體的NF3的新技術正被廣泛研究。


該技術在大幅降低液晶產品加工中占相當比例的CVD氣體成本的同時,還顯示出了上佳的環保前景,近年來用量有明顯的提高。


據權威機構預測,2010年我國將成為僅次于美國的世界二大集成電路市場,總需求量約為500億美元。目前國內使用高純六氟化硫作為蝕刻氣的生產線約有50條左右預計。2016年將達到700噸左右,


國內使用六氟化硫作為蝕刻氣的生產線有近50條,在未來的五年預計將有20條至30條新線建成。每年約消耗高純六氟化硫為600噸左右。而國內高純六氟化硫產品遠遠不能滿足市場需求,半導體廠家所用高純產品大部分依賴進口,這給高純六氟化企業提供更多的發展機遇。 


六氟化硫


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